786 为低磷化学镀镍工艺,有极佳的稳定性。镀层柔韧好,有较高的熔点(1250 ℃),很高的硬度(640 - 700 HV100),导电率好,适用于钎焊性要求高及一般工程的使用,沉积速率 15 - 20μm/h,很宽的温度范围 60 - 85 ℃,它用途广泛,可用在含碳钢、不锈钢、铜合金、钛、铝合金及绝缘体如塑料和陶瓷品上。786 工艺稳定性好,操作及维护简单,786 工艺分别以 786A 和 786B 配制新槽,以 786B 和 786C 为补充剂维护镀液,长期停产时加入 786 调整剂以稳定镀液。